輻射固化的基本化學反應是由UV或EB輻射（主要使用UV紫外線輻射）引起的不飽和化合物聚合。
UV和EB兩種固化方法之間的差異在于能量和生成的差異自由基不同的來源。 就固化系統而言，UV固化系統必須包含光引發劑，而EB固化體系不包含光引發劑。 另外，它們的其余部分由低聚物組成，活性稀釋劑，阻聚劑，輔助試劑由四部分組成。 低聚物是在末端具有不飽和基團的大分子化學物質，其決定了固化膜的基本性能。 目前，常用的低聚物是雙酚A環氧丙烯酸酯，聚酯丙烯酸酯，聚醚丙烯酸酯，聚氨酯丙烯酸酯和不飽和聚酯八種化合物。

活性稀釋劑是末端帶有不飽和基團的單體化合物，分為兩種類型：單官能和多功能，例如三甲基丙烷三丙烯酸酯，四甘醇二丙烯酸酯，乙烯基吡啶，苯乙烯等十種 化合物。 常用的光敏劑為自由基型光引發劑，在紫外線照射下，成為激發態并分裂產生自由基，或從結合的三級胺或共存碳氫化合物中提取氫而生成自由基。
，常用的光敏劑有安息香雙甲醚，二甲苯等九種化合物。

本文章由三昆自由基廠家整理原創，轉載請注明出處：http://www.shihw.com/uv/5457.html